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排胶(脱碳)预烧一体炉 详细摘要: 用途:用于碳还原法工艺做去碳等后处理
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氮化硼热压烧结炉 详细摘要: 设备用途:该设备主要用于氮化硼陶瓷材料真空热压烧结成型
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气相/液相渗硅炉 详细摘要: 用途:底升式碳管烧结炉,底部出装料是理想的碳基材料气相、液相渗硅炉.主要配置:1.立式炉体,双层炉体结构,水冷夹套设计
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高温石墨化炉 详细摘要: 用途:高温石墨化炉用于烧结碳碳及碳陶复合材料产品.主要配置:1.立式炉体,双层炉体结构,水冷夹套设计
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CVD气相沉积炉 详细摘要: 用途:CVD气相沉积炉用于烧结碳碳及碳陶复合材料产品.主要配置:1.立式炉体,双层炉体结构,水冷夹套设计
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碳碳裂解炉 详细摘要: 用途:用于将碳基材料在高温气氛状态下裂解制备碳碳复合材料.主要配置:1.立式炉体,双层炉体结构,水冷夹套设计
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碳化硅基板(粉体)烧结炉 详细摘要: 用途:用于碳化硅基板、粉体等陶瓷产品烧结主要配置:1.双层炉体结构
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真空排胶(脱碳)烧结炉 详细摘要: 用途:用于氮化铝、氮化硅、碳化硅等陶瓷产品
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氮化硅陶瓷基板烧结炉 详细摘要: 用途:主要于烧结氮化硅陶瓷基板主要配置:1.双层水冷炉体设计,压力容器钢炉壳2.等静压石墨棒作发热体,电阻加热式3.充气系统设有安全阀,压力继电器,可靠性强,安...
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氮化铝陶瓷粉体/基板烧结炉 详细摘要: 用途:主要用于烧结氮化铝陶瓷粉体及基板主要配置:1.双层水冷炉体设计,内置水冷夹套2.等静压石墨棒作发热体,电阻加热式3.充气气氛氮或氩气4.电气控制采用PLC...
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卧式真空裂解炉 详细摘要: 一、设备用途:卧式真空裂解炉主要用于碳化硅陶瓷、陶瓷复合材料等新材料的制备
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立式真空裂解炉 详细摘要: 一、设备用途:立式真空裂解炉主要用于碳化硅陶瓷、陶瓷复合材料等新材料的制备
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真空箱式排胶炉 详细摘要: 一、设备用途:箱式带炉罐真空排胶电阻炉系周期作业式电炉,主要用于真空及气氛排胶
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